惡臭物質(zhì)存在于水體、固體廢物和大氣中，在這些惡臭物質(zhì)中對人體危害比較大的主要有硫化氫、氨、硫醇類、甲基硫、三甲胺、甲醛、鉻硫、苯乙烯、酚類等。具體的說，惡臭的來源有以下幾個方面：工業(yè)惡臭、農(nóng)牧業(yè)惡臭、城市公共設(shè)施惡臭、燃料燃燒惡臭、餐飲油煙惡臭、機動車廢氣惡臭、惡臭化學(xué)物質(zhì)。惡臭氣體是指揮發(fā)性物質(zhì)分子在空氣中擴散，被吸入人體的嗅覺器官而引起不愉快的氣體。

 

 

　　工業(yè)廢氣利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對工業(yè)廢氣進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使工業(yè)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。利用高能UV光束裂解工業(yè)廢氣中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，達到凈化及殺滅細菌的目的。利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。

　　大部分宣傳采用低溫等離子技術(shù)處理廢氣的宣傳都不是意義上的低溫等離子廢氣處理技術(shù)。降解揮發(fā)性有機污染物(VOCs)傳統(tǒng)的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒等，對于低濃度的VOCs很難實現(xiàn)，而光催化降解VOCs又存在催化劑容易失活的問題，利用低溫等離子體處理VOCs可以不受上述條件的限制，具有潛在的優(yōu)勢。但由于等離子體是一門包含放電物理學(xué)、放電化學(xué)、化學(xué)反應(yīng)工程學(xué)及真空技術(shù)等基礎(chǔ)學(xué)科之上的交叉學(xué)科。因此,目前能成熟的掌握該技術(shù)的單位非常的少。

　　離子除臭設(shè)備的主要原理是在高壓電場作用下，產(chǎn)生大量的正、負氧離子，具有很強的氧化性。能在短的時間內(nèi)氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫、醚類、胺類等污染臭氣因子，打開有機揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵，終生成二氧化碳和水等穩(wěn)定無害的小分子，從而達到凈化空氣的目的。離子除臭設(shè)備適用于：垃圾、污水廠等市政設(shè)施，以及制藥廠、油漆廠、涂料廠、皮革廠、石油化工、農(nóng)藥廠、制藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業(yè)場所。UV光解除臭設(shè)備是由離子發(fā)生器、離子傳送管、控制系統(tǒng)組成、用來除臭、異味的空氣凈化設(shè)備，普遍應(yīng)用于工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場所。常見的有等離子除臭設(shè)備、高能離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備。